Arsitektur Pengemasan 3D Lanjutan dan Interkoneksi Chiplet UCIe: Menembus Batas Reticle Fisik Silikon Monolitik
Hukum Moore pada silikon monolitik menghadapi dinding fisik tak terhindarkan: batas reticle fotolitografi 858 milimeter persegi. Solusi industri semikonduktor kini bertumpu pada pengemasan 3D heterogen dan standar interkoneksi chiplet terbuka UCIe untuk membangun superchip komputasi skala besar.